सैफायर ग्लास प्रोसेसिंग हीटर

Mon, 29 Jun 2026 03:47:09 +0800

सैफायर के टुकड़ों को गर्म करते समय, धीमी या असमान गर्मी सहन नहीं होती। यदि गर्मी देने की प्रक्रिया धीमी हो, तो टुकड़ों में विकृतियाँ, किनारों पर दरारें आ जाती हैं, एवं टुकड़ों की ऑप्टिकल गुणवत्ता भी प्रभावित हो जाती है। हमने ऐसे हीटरों को उत्पादन हेतु बनाया है, न कि प्रदर्शन हेतु।

हीटरों में क्या महत्वपूर्ण है?
हीटरों में शॉर्ट-वेव क्वार्ट्ज तत्वों का उपयोग किया गया है – ऐसे तत्व उच्च तीव्रता वाली ऊर्जा प्रदान करते हैं। सामान्य रूप से, तापमान में वृद्धि की दर 12°C/सेकंड होती है; इससे टुकड़ों को गर्म करने में लगने वाला समय कम हो जाता है। 1200°C पर भी तापमान समान रहता है, इसलिए पूरे टुकड़े पर समान तापीय दबाव पड़ता है। ऊर्जा घनत्व 30–40 वाट/सेमी² है; यह मात्रा मोटे सैफायर टुकड़ों को गर्म करने हेतु पर्याप्त है। नियंत्रण हेतु PID तकनीक का उपयोग किया गया है; इससे लोड में परिवर्तन होने पर भी तापमान ±1°C के भीतर ही रहता है।

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सैफायर ग्लास प्रोसेसिंग हीटर